Literaturnachweis - Detailanzeige
Autor/inn/en | Crössmann, Ivo; Storck, Peter; Hohl, Georg; Wenski, Guido |
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Titel | Die Herstellung von Reinstsiliciumscheiben. Mehr Chemie als man glaubt. |
Quelle | In: Chemie in unserer Zeit, 37 (2003) 3, S. 198-208 |
Beigaben | Tabellen |
Sprache | deutsch |
Dokumenttyp | gedruckt; Zeitschriftenaufsatz |
ISSN | 0009-2851 |
Schlagwörter | Sachinformation; Beschichtung; Chemie; Reinstoff; Silicium; Bauelement; Naturwissenschaften; Elektronik |
Abstract | Einkristalline Halbleiterscheiben aus Silicium stellen die Grundlage für mikroelektronische Bauelemente dar. Die Umwandlung des Ausgangsmaterials Quarz in eine epitaktisch beschichtete 300-mm-Scheibe umfasst eine Vielzahl von Prozesschritten, die teilweise deutlich von chemischen Verfahren geprägt sind. Der vorliegende Aufsatz führt in die Herstellung von Halbleitersilicium sowie die Verfahren Ätzen, Polieren, Reinigen und Epitaxie ein. Was diesen Technologiezweig auszeichnet, sind die extremen Anforderungen an Oberflächenperfektion und Reinheit, die sich in Atomanlagen (Oberflächenrauheit der Scheiben) und parts per trillion (Kontamination der Chemikalien) ausdrücken lassen. (orig.). |
Erfasst von | Landesinstitut für Schule, Soest |
Update | 2004_(CD) |